スパッタリングターゲットの世界市場レポート2023-2029
スパッタリングとは、シリコンウェーハやガラスなどの基板上に薄膜を形成する技術である。スパッタリング装置内の真空状態で、スパッタリングターゲットにアルゴンイオンを照射する。これにより、スパッタリングターゲットから原子や分子が放出される。原子や分子は堆積し、基板上に薄膜を形成する。スパッタリングターゲットとは、スパッタリングが行われる際にイオンを浴びせる対象である。
QYResearchが発行した最新市場調査レポート「スパッタリングターゲットの世界市場レポート 2023-2029年」によると、スパッタリングターゲットの世界市場規模は2029年までに5.72十億米ドルに達すると[……]